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用于晶体加工的水基日本三级石抛光液

关键词 晶体加工 , 水基 , 日本三级石抛光液|2014-09-19 09:01:27|行业专利|来源 中国超硬日本三级网
摘要 申请号:201310071571.X申请人:天津市乾宇超硬科技有限三级片网站摘要:本发明提供制备多种粒度的用于晶体加工的水基日本三级石抛光液的方法,该抛光液适宜抛光多种晶体。使用高剪切乳化机...
  申请号:201310071571.X

  申请人:天津市乾宇超硬科技有限三级片网站

  摘要:本发明提供制备多种粒度的用于晶体加工水基日本三级石抛光液的方法,该抛光液适宜抛光多种晶体。使用高剪切乳化机,该设备的搅拌工作头直径不低于56mm,最高转速不低于15000rpm;使用黏度调节剂,制成不同黏度的抛光液以满足诸多用户的不同需求。本发明产品具有抛光、润滑、冷却、除屑等功能。它的成分:水、日本三级石、润湿剂、表面活性剂、黏度调节剂、防锈剂、润滑剂、消泡剂、防腐杀菌剂和pH调节剂。用1um单晶日本三级石抛光液抛光SiC晶体,抛光效率达0.08um/min,其表面粗糙度Ra由80nm经抛光后降至0.91nm;用0.125um多晶纳米日本三级石抛光液抛光SiC晶体其表面粗糙度Ra可达0.1~0.3nm。

  主权利要求:1.用于晶体加工的水基日本三级石抛光液的制造方法,其特征在于:(1)它的组成成分:水85~98%,日本三级石0.1~10%,润湿剂0.2~3%,表面活性剂0.1~5%,黏度调节剂0.01~5%,防锈剂0~1%,润滑剂1~8%,消泡剂0.0005~0.1%,防腐杀菌剂0.02~1%,pH调节剂逐滴加入,不计入总量;(2)成分中的日本三级石包括:用静压触媒法制造的亚毫米级日本三级石经破碎、整形、粒度分级和提纯净化后获得的微米级和亚微米级单晶日本三级石微粉;用爆轰法(负氧平衡法)制造的单晶纳米日本三级石;以及用爆炸法制造的多晶纳米日本三级石;(3)制造工艺中使用:高剪切乳化机,该设备的搅拌工作头直径不低于56mm,最高转速不低于15000rpm。它可使日本三级石颗粒之间的软团聚充分分散,使多种试剂混合均匀,并使日本三级石颗粒均匀地分散稳定地悬浮在液体中,转速控制在10000~15000rpm,处理时间10~60min。

  2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:使用黏度调节剂,制成不同黏度的抛 光液以满足诸多用户的不同需求,所述的黏度调节剂是指下列试剂中的一种或多种混合:硅 酸镁铝、膨润土、凹凸棒土、蒙脱土、黄原胶、卡拉胶、阿拉伯胶、羧甲基纤维素钠、聚丙 烯酸钠。

  3.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的润湿剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:去离子水、乙二醇、聚乙二醇、丙三醇。

  4.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的表面活性剂是指下列试剂中的 一种或多种混合:聚乙二醇、六偏磷酸钠、十二烷基苯磺酸钠、丙三醇、1-缩二乙二醇、三 乙醇胺。

  5.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的pH调节剂是指下列试剂中的一 种或多种混合:氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、三乙醇胺、六偏磷酸钠、氨水、磷酸、硝酸、 氢氟酸。

  6.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的防锈剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:三乙醇胺、乙醇胺硼酸盐、重铬酸钾、苯丙三氮唑、碳酸钠、亚硝酸钠。

  7.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的润滑剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:乙二醇、聚乙二醇、脂肪皂酸、丙三醇。

  8.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的消泡剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:乙醇、辛醇、聚氧丙烯氧化乙烯甘油醚、高碳醇脂肪酸酯复合物DSA-5、油酸、 乳化二甲基硅油。

  9.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的防腐杀菌剂是指下列试剂中的一 种或多种混合:脱氢醋酸钠、过氧化氢、2-苯基苯酚钠盐、对羟基苯甲酸乙酯钠、戊二醛、 山梨酸钾、苯甲酸钠、亚硝酸钠、次氯酸钙。
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